Runway เป็นแพลตฟอร์มเครื่องมือที่สร้างสรรค์และทันสมัย ซึ่งผสานเทคโนโลยี AI เพื่อช่วยนักออกแบบและศิลปินในการนำความคิดสร้างสรรค์ไปสู่การปฏิบัติได้อย่างรวดเร็ว เพิ่มประสิทธิภาพในการทำงาน และปลดปล่อยความเป็นไปได้ที่ไร้ขีดจำกัด